IT之家 10 月 10 日消息,闪存市场固然存在全球经济下行、高通胀等诸多因素影响,依然处于充满挑战的时期,但美光、三星等 DRAM 巨头正积极备战 1γ DRAM 技术。
图源:SK 海力士
目前全球最先进的 DRAM 工艺发展到了第五代,美光将其称为 1β DRAM,而三星将其称为 1b DRAM。
美光于去年 10 月开始量产 1β DRAM,不过研发的目标是在 2025 年量产 1γ DRAM,这将标志着美光首次涉足极紫外 (EUV) 光刻技术。
而三星计划 2023 年迈入 1b DRAM 工艺阶段,芯片容量从 24Gb(3GB)到 32Gb(4GB),原生速度从 6.4 提高到 7.2Gbps。
在 NAND 闪存业务中,该技术现已突破 200 层堆叠的显著里程碑,存储制造商不断追求更高的层数。
SK 海力士于 8 月 9 日在 2023 闪存峰会上展示了全球首款 321 层 NAND 闪存样品。与之前的 238 层 512Gb NAND 相比,这一创新将效率提高了 59%。SK 海力士计划进一步完善 321 层 NAND 闪存,并计划于 2025 年上半年开始生产。
此外,美光还制定了超越 232 层的雄心勃勃的计划,即将推出 2YY、3XX 和 4XX 等产品。Kioxia 和西部数据也在积极探索 300 层、400 层和 500 层以上的 3D NAND 技术。
IT之家此前报道,三星计划在 2024 年推出第九代 3D NAND,可能具有 280 层,随后在 2025-2026 年推出第十代,可能达到 430 层,他们的最终目标是到 2030 年实现 1000 层 NAND 闪存。